שיטת חשיפה, מתקן חשיפה ושיטת ייצור המתקן - פטנט 186919 - קונץ פטנט

כללי

מספר פטנט:: 186919
שם האמצאה:: שיטת חשיפה, מתקן חשיפה ושיטת ייצור המתקן
שם באנגלית:: EXPOSURE METHOD, EXPOSURE APPARATUS AND DEVICE MANUFACTURING METHOD

בקשות ופרסומים

תאריך	סוג	מספר	מדינה
	פרסום בינלאומי	2006/118258	הארגון העולמי לקניין רוחני (WO)
28/04/2005	דין קדימה	2005-131866	יפן (JP)
28/04/2006	בקשה בינלאומית	PCT/JP/2006/309002	יפן (JP)
25/10/2007	בקשת PCT	186919	ישראל (IL)
29/08/2013	פרסום לאומי	186919	ישראל (IL)

סיווגים (IPC)

H01L: חשמל > אלמנטים חשמליים בסיסיים

מגיש

שם:: NIKON CORPORATION
כתובת:: 12-1, YURAKUCHO 1-CHOME, CHIYODA-KU, TOKYO 100-8331 , JP
מדינה:: יפן

מגיש/ממציא

שם:: KENICHI SHIRAISHI

מגיש/ממציא

שם:: TOMOHARU FUJIWARA

מסירת הודעות

שם:: ד" ר מרק פרידמן בע" מ
כתובת:: מגדל משה אביב, ק.54 , רחוב ז'בוטינסקי, רמת- גן 52520
מדינה:: ישראל
טלפון:: 03-6114100
דוא"ל:: patents@friedpat.com

סוכן

שם:: ד" ר מרק פרידמן בע" מ
כתובת:: מגדל משה אביב, ק.54 , רחוב ז'בוטינסקי, רמת- גן 52520
מדינה:: ישראל
טלפון:: 03-6114100
דוא"ל:: patents@friedpat.com

מסמכים

פטנטים דומים