מתקן חשיפה, שיטת חשיפה ושיטה לייצור מתקן - פטנט 179826 - קונץ פטנט

כללי

מספר פטנט:: 179826
שם האמצאה:: מתקן חשיפה, שיטת חשיפה ושיטה לייצור מתקן
שם באנגלית:: EXPOSURE APPARATUS, EXPOSURE METHOD, AND DEVICE PRODUCING METHOD

בקשות ופרסומים

תאריך	סוג	מספר	מדינה
	פרסום בינלאומי	2005/119742	הארגון העולמי לקניין רוחני (WO)
04/06/2004	דין קדימה	2004-167115	יפן (JP)
03/06/2005	בקשה בינלאומית	PCT/JP/2005/010217	יפן (JP)
04/12/2006	בקשת PCT	179826	ישראל (IL)
15/05/2007	פרסום לאומי	179826	ישראל (IL)

סיווגים (IPC)

H01L: חשמל > אלמנטים חשמליים בסיסיים

מגיש

שם:: NIKON CORPORATION

מגיש/ממציא

שם:: YASUFUMI NISHII

פטנטים דומים