כללי
מספר פטנט:
180840
שם האמצאה:
שיטת חשיפה ושיטה לייצר מתקן
שם באנגלית:
EXPOSURE METHOD AND DEVICE MANUFACTURING METHOD
  בקשות ופרסומים
תאריך סוג מספר מדינה
פרסום בינלאומי 2006/009169 הארגון העולמי לקניין רוחני (WO)
דין קדימה 2004-212756 יפן (JP)
דין קדימה 2005-190728 יפן (JP)
בקשה בינלאומית PCT/JP/2005/013311 יפן (JP)
בקשת PCT 180840 ישראל (IL)
פרסום לאומי 180840 ישראל (IL)
  סיווגים (IPC)
  • H01L: חשמל > אלמנטים חשמליים בסיסיים
  מגיש
שם:
NIKON CORPORATION
  מגיש/ממציא
שם:
HIROYUKI NAGASAKA
  מגיש/ממציא
שם:
TOMOHARU FUJIWARA