כללי
מספר פטנט:
183515
שם האמצאה:
מתקן חשיפה, שיטת חשיפה ושיטת ייצור המתקן
שם באנגלית:
EXPOSURE APPARATUS, EXPOSURE METHOD, AND DEVICE MANUFACTURING METHOD
  בקשות ופרסומים
תאריך סוג מספר מדינה
פרסום בינלאומי 2006/059720 הארגון העולמי לקניין רוחני (WO)
דין קדימה 2004-349729 יפן (JP)
בקשה בינלאומית PCT/JP/2005/022193 יפן (JP)
בקשת PCT 183515 ישראל (IL)
פרסום לאומי 183515 ישראל (IL)
  מגיש
שם:
NIKON CORPORATION