כללי
מספר פטנט:
188276
שם האמצאה:
שיטת ומתקן חשיפה ומתקן ליצורו
שם באנגלית:
EXPOSURE METHOD AND EXPOSURE APPARATUS, AND DEVICE MANUFACTURING METHOD
  בקשות ופרסומים
תאריך סוג מספר מדינה
פרסום בינלאומי 2007/000984 הארגון העולמי לקניין רוחני (WO)
דין קדימה 2005-188837 יפן (JP)
בקשה בינלאומית PCT/JP/2006/312763 יפן (JP)
בקשת PCT 188276 ישראל (IL)
פרסום לאומי 188276 ישראל (IL)
  מגיש
שם:
NIKON CORPORATION
  מגיש/ממציא
שם:
YUSAKU UEHARA
  מגיש/ממציא
שם:
KIYOSHI UCHIKAWA
  מגיש/ממציא
שם:
SATOSHI ISHIYAMA