קונץ פטנט
ראשי
חיפוש פטנטים
אודות
צור קשר
שיטת ומתקן חשיפה ומתקן ליצורו
פטנט 188276
כללי
מספר פטנט:
188276
שם האמצאה:
שיטת ומתקן חשיפה ומתקן ליצורו
שם באנגלית:
EXPOSURE METHOD AND EXPOSURE APPARATUS, AND DEVICE MANUFACTURING METHOD
בקשות ופרסומים
תאריך
סוג
מספר
מדינה
פרסום בינלאומי
2007/000984
הארגון העולמי לקניין רוחני (WO)
28/06/2005
דין קדימה
2005-188837
יפן (JP)
27/06/2006
בקשה בינלאומית
PCT/JP/2006/312763
יפן (JP)
19/12/2007
בקשת PCT
188276
ישראל (IL)
13/04/2008
פרסום לאומי
188276
ישראל (IL)
מגיש
שם:
NIKON CORPORATION
מגיש/ממציא
שם:
YUSAKU UEHARA
מגיש/ממציא
שם:
KIYOSHI UCHIKAWA
מגיש/ממציא
שם:
SATOSHI ISHIYAMA
פטנטים דומים
מתקן חשיפה, שיטת חשיפה ושיטה לייצור המתקן
אוכסימים של דיבנזוציקלו - הפטנון ודיבזוציקלו - אוקטאנון והכנתם
מתקן חשיפה, שיטת חשיפה ושיטה לייצור מתקן עבורם
בנזותיאזופינים ובנזותיאזוצינים והכנתם
4- ו-7-בנזופוראניל קרבאמטים ותיונוקרבאמטים