כללי
מספר פטנט:
181873
שם האמצאה:
מתקן חשיפה, שיטת חשיפה ושיטה לייצור מתקן בעזרתם
שם באנגלית:
EXPOSURE APPARATUS, EXPOSURE METHOD AND METHOD FOR MANUFACTURING A DEVICE THEREWITH
  בקשות ופרסומים
תאריך סוג מספר מדינה
פרסום בינלאומי 2006/030902 הארגון העולמי לקניין רוחני (WO)
דין קדימה 2004-271635 יפן (JP)
דין קדימה 2004-274990 יפן (JP)
בקשה בינלאומית PCT/JP/2005/017163 יפן (JP)
בקשת PCT 181873 ישראל (IL)
פרסום לאומי 181873 ישראל (IL)
  מגיש
שם:
NIKON CORPORATION
כתובת:
12-1, YURAKUCHO 1-CHOME, CHIYODA-KU, TOKYO 100-8331 , JP
מדינה:
יפן
  מגיש/ממציא
שם:
TAKEYUKI MIZUTANI
  מסירת הודעות
שם:
ד" ר מרק פרידמן בע" מ
כתובת:
מגדל משה אביב, ק.54 , רחוב ז'בוטינסקי, רמת- גן 52520
מדינה:
ישראל
טלפון:
03-6114100
דוא"ל:
patents@friedpat.com
  סוכן
שם:
ד" ר מרק פרידמן בע" מ
כתובת:
מגדל משה אביב, ק.54 , רחוב ז'בוטינסקי, רמת- גן 52520
מדינה:
ישראל
טלפון:
03-6114100
דוא"ל:
patents@friedpat.com