מערכת הקרנה אופטית, התקן ושיטת חשיפה, ושיטה לייצור התקן - פטנט 171745 - קונץ פטנט

כללי

מספר פטנט:: 171745
שם האמצאה:: מערכת הקרנה אופטית, התקן ושיטת חשיפה, ושיטה לייצור התקן
שם באנגלית:: PROJECTION OPTICAL SYSTEM, EXPOSURE APPARATUS, EXPOSURE METHOD AND DEVICE MANUFACTURING METHOD

בקשות ופרסומים

תאריך	סוג	מספר	מדינה
	פרסום בינלאומי	2004/107011	הארגון העולמי לקניין רוחני (WO)
06/05/2003	דין קדימה	2003-128154	יפן (JP)
09/10/2003	דין קדימה	2003-350647	יפן (JP)
24/10/2003	דין קדימה	2003-364596	יפן (JP)
06/05/2004	בקשה בינלאומית	PCT/JP/2004/006417	יפן (JP)
02/11/2005	בקשת PCT	171745	ישראל (IL)
16/06/2010	פרסום לאומי	171745	ישראל (IL)

מגיש

שם:: NIKON CORPORATION
כתובת:: 12-1, YURAKUCHO 1-CHOME, CHIYODA-KU, TOKYO 100-8331 , JP
מדינה:: יפן

מגיש/ממציא

שם:: YASUHIRO OMURA

מסירת הודעות

שם:: ג'יי אמ בי דייויס בן-דוד
כתובת:: מרכז בק למדע, הרטום 8, הר חוצבים, ירושלים 9777401
מדינה:: ישראל
טלפון:: 02-5714777
פקס:: 02-5714455
דוא"ל:: ipo@jmb.co.il

סוכן

שם:: ג'יי אמ בי דייויס בן-דוד
כתובת:: מרכז בק למדע, הרטום 8, הר חוצבים, ירושלים 9777401
מדינה:: ישראל
טלפון:: 02-5714777
פקס:: 02-5714455
דוא"ל:: ipo@jmb.co.il

מסמכים

פטנטים דומים