כללי
מספר פטנט:
181136
שם האמצאה:
מערכת אופטית להקרנה, התקן חשיפה, ושיטת חשיפה
שם באנגלית:
PROJECTION OPTICAL SYSTEM, EXPOSURE APPARATUS, AND EXPOSURE METHOD
  בקשות ופרסומים
תאריך סוג מספר מדינה
פרסום בינלאומי 2006/013734 הארגון העולמי לקניין רוחני (WO)
דין קדימה 2004-227226 יפן (JP)
דין קדימה 2004-267319 יפן (JP)
דין קדימה 2005-136902 יפן (JP)
בקשה בינלאומית PCT/JP/2005/013447 יפן (JP)
בקשת PCT 181136 ישראל (IL)
פרסום לאומי 181136 ישראל (IL)
  מגיש
שם:
NIKON CORPORATION