כללי
מספר פטנט:
145678
שם האמצאה:
מערכת עיבוד לפרוסות מוליך למחצה בעלת תאי תהליך מסודרים אנכית ומעכבתהעברה חד-צירית רבת-פרוסות
שם באנגלית:
SEMICONDUCTOR WAFER PROCESSING SYSTEM WITH VERTICALLY-STACKED PROCESS CHAMBERS AND SINGLE-AXIS DUAL-WAFER TRANSFER SYSTEM
  בקשות ופרסומים
תאריך סוג מספר מדינה
פרסום בינלאומי 2000/060414 הארגון העולמי לקניין רוחני (WO)
דין קדימה 60/127532 ארה"ב (US)
דין קדימה 60/127650 ארה"ב (US)
דין קדימה 483945 ארה"ב (US)
בקשה בינלאומית PCT/US/2000/007509 ארה"ב (US)
בקשת PCT 145678 ישראל (IL)
פרסום לאומי 145678 ישראל (IL)
  מגיש
שם:
SILICON VALLEY GROUP THERMAL SYSTEMS, LLC