כללי
מספר פטנט:
137533
שם האמצאה:
פרוסת מוליך למחצה והתקן מוליך למחצהלעיבוד סובסטראט מוליך למחצה
שם באנגלית:
WAFER CARRIER AND SEMICONDUCTOR APPARATUS FOR PROCESSING A SEMICONDUCTOR SUBSTRATE
  בקשות ופרסומים
תאריך סוג מספר מדינה
פרסום בינלאומי 1999/039144 הארגון העולמי לקניין רוחני (WO)
דין קדימה 018021 ארה"ב (US)
בקשה בינלאומית PCT/US/1999/002100 ארה"ב (US)
בקשת PCT 137533 ישראל (IL)
פרסום לאומי 137533 ישראל (IL)
  מגיש
שם:
SILICON VALLEY GROUP THERMAL SYSTEMS, LLC