קונץ פטנט
ראשי
חיפוש פטנטים
אודות
צור קשר
תרכובות ושיטות אידוש מתכות לליטוש כימי–מכני
פטנט 227384
כללי
מספר פטנט:
227384
שם האמצאה:
תרכובות ושיטות אידוש מתכות לליטוש כימי–מכני
שם באנגלית:
METAL-PASSIVATING CMP COMPOSITIONS AND METHODS
בקשות ופרסומים
תאריך
סוג
מספר
מדינה
פרסום בינלאומי
2012/096931
הארגון העולמי לקניין רוחני (WO)
11/01/2011
דין קדימה
US 13/004113
ארה"ב (US)
10/01/2012
בקשה בינלאומית
PCT/US/2012/020737
ארה"ב (US)
08/07/2013
בקשת PCT
227384
ישראל (IL)
30/09/2013
פרסום לאומי
227384
ישראל (IL)
סיווגים (IPC)
C09K : כימיה, מטלורגיה > צבעים; מבריקים; שרף טבעי; דבקים; תרכובות שלא הוגדרו אחרת; יישומים של חומרים שלא הוגדרו אחרת
מגיש
שם:
CABOT MICROELECTRONICS CORPORATION
פטנטים דומים
הרכבים ושיטות לליטוש כימי–מכני של סגסוגות בעלות שינוי–מופע
שיטה להשגחת תהליך PMC של שכבות מתכת
מעקב אחר תהליך ליטוש מכנו כימי של מתכות
מבנה בדיקה לבקרת תהליך ליטוש מכנו–כימי של מתכות
הרכבים מוגברי–קצב לליטוש כימי–מכאני עבור שכבות די–אלקטריות