קונץ פטנט
ראשי
חיפוש פטנטים
אודות
צור קשר
הרכבים מוגברי–קצב לליטוש כימי–מכאני עבור שכבות די–אלקטריות
פטנט 196220
כללי
מספר פטנט:
196220
שם האמצאה:
הרכבים מוגברי–קצב לליטוש כימי–מכאני עבור שכבות די–אלקטריות
שם באנגלית:
RATE-ENHANCED CMP COMPOSITIONS FOR DIELECTRIC FILMS
בקשות ופרסומים
תאריך
סוג
מספר
מדינה
פרסום בינלאומי
2008/013678
הארגון העולמי לקניין רוחני (WO)
24/07/2006
דין קדימה
11/491612
ארה"ב (US)
12/07/2007
בקשה בינלאומית
PCT/US/2007/015872
ארה"ב (US)
25/12/2008
בקשת PCT
196220
ישראל (IL)
30/04/2014
פרסום לאומי
196220
ישראל (IL)
מגיש
שם:
CABOT MICROELECTRONICS CORPORATION
כתובת:
870 NORTH COMMONS DRIVE AURORA, ILLINOIS 60504 , US
מדינה:
ארה"ב
מסירת הודעות
שם:
זליגסון גבריאלי ושות'
כתובת:
רח' יבנה 31, תל אביב 61013
מדינה:
ישראל
טלפון:
03-5661446
פקס:
03-5608458
דוא"ל:
mail@sgl.co.il
סוכן
שם:
זליגסון גבריאלי ושות'
כתובת:
רח' יבנה 31, תל אביב 61013
מדינה:
ישראל
טלפון:
03-5661446
פקס:
03-5608458
דוא"ל:
mail@sgl.co.il
מסמכים
פרטי הבקשה
תביעות
פטנטים דומים
הגברת הכוון לקיבוע דיאלקטרון נמוך חשמלי ברזלי בחומרים
הרכבים ושיטות לליטוש כימי–מכני של סגסוגות בעלות שינוי–מופע
תוצר מחלבה עם תוכן מוגדל של CMP
תרכובות ושיטות אידוש מתכות לליטוש כימי–מכני
שיטה להשגחת תהליך PMC של שכבות מתכת