שיטת ליטוש כימי–מכאני של מצעי נחושת/רותניום/טנטל - פטנט 198373 - קונץ פטנט

כללי

מספר פטנט:: 198373
שם האמצאה:: שיטת ליטוש כימי–מכאני של מצעי נחושת/רותניום/טנטל
שם באנגלית:: CMP OF COPPER/RUTHENIUM/TANTALUM SUBSTRATES

בקשות ופרסומים

תאריך	סוג	מספר	מדינה
	פרסום בינלאומי	2008/057593	הארגון העולמי לקניין רוחני (WO)
02/11/2006	דין קדימה	11/591730	ארה"ב (US)
01/11/2007	בקשה בינלאומית	PCT/US/2007/023576	ארה"ב (US)
26/04/2009	בקשת PCT	198373	ישראל (IL)
31/03/2014	פרסום לאומי	198373	ישראל (IL)

מגיש

שם:: CABOT MICROELECTRONICS CORPORATION
כתובת:: 870 NORTH COMMONS DRIVE AURORA, ILLINOIS 60504 , US
מדינה:: ארה"ב

מסירת הודעות

שם:: זליגסון גבריאלי ושות'
כתובת:: רח' יבנה 31, תל אביב 61013
מדינה:: ישראל
טלפון:: 03-5661446
פקס:: 03-5608458
דוא"ל:: mail@sgl.co.il

סוכן

שם:: זליגסון גבריאלי ושות'
כתובת:: רח' יבנה 31, תל אביב 61013
מדינה:: ישראל
טלפון:: 03-5661446
פקס:: 03-5608458
דוא"ל:: mail@sgl.co.il

מסמכים

פטנטים דומים