קונץ פטנט
ראשי
חיפוש פטנטים
אודות
צור קשר
שיטת ליטוש כימי–מכני עבור מוסבים המכילים נחושת
פטנט 194462
כללי
מספר פטנט:
194462
שם האמצאה:
שיטת ליטוש כימי–מכני עבור מוסבים המכילים נחושת
שם באנגלית:
CMP METHOD FOR COPPER-CONTAINING SUBSTRATES
בקשות ופרסומים
תאריך
סוג
מספר
מדינה
פרסום בינלאומי
2007/126672
הארגון העולמי לקניין רוחני (WO)
21/04/2006
דין קדימה
11/408334
ארה"ב (US)
22/03/2007
בקשה בינלאומית
PCT/US/2007/007123
ארה"ב (US)
02/10/2008
בקשת PCT
194462
ישראל (IL)
03/08/2009
פרסום לאומי
194462
ישראל (IL)
סיווגים (IPC)
B24B : תחבורה > טחינה; ליטוש
מגיש
שם:
CABOT MICROELECTRONICS CORPORATION
פטנטים דומים
ליטוש כימי–מכני של מצעי נחושת/רותניום
שיטת ליטוש כימי–מכאני עבור מצעים המכילים מתכת
שיטת ליטוש כימי–מכאני של מצעי נחושת/רותניום/טנטל
מצע הגנה הכולל תרכובות עופרת במעלה הזרימה לפני מצע של זרז המכיל נחושת למניעת זיהום הזרז עם מזהמים המכיליםכלו וגופרית
מעכבי אמין-אוקסידייזים המכילים נחושת