שיטת ליטוש כימי–מכאני עבור מצעים המכילים מתכת - פטנט 196222 - קונץ פטנט

כללי

מספר פטנט:: 196222
שם האמצאה:: שיטת ליטוש כימי–מכאני עבור מצעים המכילים מתכת
שם באנגלית:: CMP METHOD FOR METAL-CONTAINING SUBSTRATES

בקשות ופרסומים

תאריך	סוג	מספר	מדינה
	פרסום בינלאומי	2008/008282	הארגון העולמי לקניין רוחני (WO)
12/07/2006	דין קדימה	60/830233	ארה"ב (US)
06/07/2007	בקשה בינלאומית	PCT/US/2007/015555	ארה"ב (US)
25/12/2008	בקשת PCT	196222	ישראל (IL)
31/12/2014	פרסום לאומי	196222	ישראל (IL)

מגיש

שם:: CABOT MICROELECTRONICS CORPORATION
כתובת:: 870 NORTH COMMONS DRIVE AURORA, ILLINOIS 60504 , US
מדינה:: ארה"ב

מסירת הודעות

שם:: זליגסון גבריאלי ושות'
כתובת:: רח' יבנה 31, תל אביב 61013
מדינה:: ישראל
טלפון:: 03-5661446
פקס:: 03-5608458
דוא"ל:: mail@sgl.co.il

סוכן

שם:: זליגסון גבריאלי ושות'
כתובת:: רח' יבנה 31, תל אביב 61013
מדינה:: ישראל
טלפון:: 03-5661446
פקס:: 03-5608458
דוא"ל:: mail@sgl.co.il

מסמכים

פטנטים דומים