ליטוש כימי–מכני של מצעי נחושת/רותניום - פטנט 190342 - קונץ פטנט

כללי

מספר פטנט:: 190342
שם האמצאה:: ליטוש כימי–מכני של מצעי נחושת/רותניום
שם באנגלית:: CMP OF COPPER/RUTHENIUM SUBSTRATES

בקשות ופרסומים

תאריך	סוג	מספר	מדינה
	פרסום בינלאומי	2007/050313	הארגון העולמי לקניין רוחני (WO)
26/10/2005	דין קדימה	11/259645	ארה"ב (US)
12/10/2006	בקשה בינלאומית	PCT/US/2006/039956	ארה"ב (US)
20/03/2008	בקשת PCT	190342	ישראל (IL)
28/06/2012	פרסום לאומי	190342	ישראל (IL)

מגיש

שם:: CABOT MICROELECTRONICS CORPORATION
כתובת:: 870 NORTH COMMONS DRIVE AURORA, ILLINOIS 60504 , US
מדינה:: ארה"ב

מסירת הודעות

שם:: זליגסון גבריאלי ושות'
כתובת:: רח' יבנה 31, תל אביב 61013
מדינה:: ישראל
טלפון:: 03-5661446
פקס:: 03-5608458
דוא"ל:: mail@sgl.co.il

סוכן

שם:: זליגסון גבריאלי ושות'
כתובת:: רח' יבנה 31, תל אביב 61013
מדינה:: ישראל
טלפון:: 03-5661446
פקס:: 03-5608458
דוא"ל:: mail@sgl.co.il

מסמכים

פטנטים דומים