כללי
מספר פטנט:
130137
שם האמצאה:
מתקן חשיפה ושיטת חשיפה
שם באנגלית:
EXPOSURE APPARATUS AND AN EXPOSURE METHOD
  בקשות ופרסומים
תאריך סוג מספר מדינה
פרסום בינלאומי 1998/024115 הארגון העולמי לקניין רוחני (WO)
דין קדימה 8-332846 יפן (JP)
דין קדימה 8-332847 יפן (JP)
דין קדימה 8-332843 יפן (JP)
דין קדימה 8-332844 יפן (JP)
דין קדימה 8-332845 יפן (JP)
בקשה בינלאומית PCT/JP/1997/004350 יפן (JP)
בקשת PCT 130137 ישראל (IL)
פרסום לאומי 130137 ישראל (IL)
  מגיש
שם:
NIKON CORPORATION
כתובת:
12-1, YURAKUCHO 1-CHOME, CHIYODA-KU, TOKYO 100-8331 , JP
מדינה:
יפן
  מגיש/ממציא
שם:
KENJI NISHI
  מגיש/ממציא
שם:
KAZUYA OTA
  מסירת הודעות
שם:
ד" ר מרק פרידמן בע" מ
כתובת:
מגדל משה אביב, ק.54 , רחוב ז'בוטינסקי, רמת- גן 52520
מדינה:
ישראל
טלפון:
03-6114100
דוא"ל:
patents@friedpat.com