קונץ פטנט
ראשי
חיפוש פטנטים
אודות
צור קשר
מתקן חשיפה, שיטת חשיפה ושיטה לייצור מתקן
פטנט 179936
כללי
מספר פטנט:
179936
שם האמצאה:
מתקן חשיפה, שיטת חשיפה ושיטה לייצור מתקן
שם באנגלית:
EXPOSURE APPARATUS, EXPOSURE METHOD, AND DEVICE PRODUCING METHOD
בקשות ופרסומים
תאריך
סוג
מספר
מדינה
פרסום בינלאומי
2005/122220
הארגון העולמי לקניין רוחני (WO)
10/06/2004
דין קדימה
2004-172568
יפן (JP)
08/06/2005
בקשה בינלאומית
PCT/JP/2005/010484
יפן (JP)
10/12/2006
בקשת PCT
179936
ישראל (IL)
15/05/2007
פרסום לאומי
179936
ישראל (IL)
מגיש
שם:
NIKON CORPORATION
מגיש/ממציא
שם:
HIROYUKI NAGASAKA
מגיש/ממציא
שם:
MINORU ONDA
פטנטים דומים
מתקן חשיפה, שיטת חשיפה ושיטה לייצור מתקן
מתקן חשיפה, שיטת חשיפה ושיטה לייצור המתקן
מתקן חשיפה, שיטת חשיפה ושיטה לייצור המתקן
מתקן חשיפה, שיטת חשיפה, שיטה ליצור מתקן ורכיב אופטי
מתקן חשיפה, שיטת חשיפה, שיטה ליצור המתקן ורכיב אופטי