כללי
מספר פטנט:
179936
שם האמצאה:
מתקן חשיפה, שיטת חשיפה ושיטה לייצור מתקן
שם באנגלית:
EXPOSURE APPARATUS, EXPOSURE METHOD, AND DEVICE PRODUCING METHOD
  בקשות ופרסומים
תאריך סוג מספר מדינה
פרסום בינלאומי 2005/122220 הארגון העולמי לקניין רוחני (WO)
דין קדימה 2004-172568 יפן (JP)
בקשה בינלאומית PCT/JP/2005/010484 יפן (JP)
בקשת PCT 179936 ישראל (IL)
פרסום לאומי 179936 ישראל (IL)
  מגיש
שם:
NIKON CORPORATION