תהליך ליצירת דגמה שלילית בשכבת פוטורזיסט - פטנט 76702 - קונץ פטנט

כללי

מספר פטנט:: 76702
שם האמצאה:: תהליך ליצירת דגמה שלילית בשכבת פוטורזיסט
שם באנגלית:: PROCESS OF FORMING A NEGATIVE PATTERN IN A PHOTORESIST LAYER

בקשות ופרסומים

תאריך	סוג	מספר	מדינה
26/10/1984	דין קדימה	84/27149	בריטניה (GB)
14/10/1985	בקשה לאומית	76702	ישראל (IL)
31/07/1989	פרסום לאומי	76702	ישראל (IL)

מגיש

שם:: UCB ELECTRONICS, S.A.
כתובת:: 60ALLEE DE LA RECHERCHE B-1070 BRUXELLES , BE
מדינה:: בלגיה

מסירת הודעות

שם:: ריינהולד כהן ושותפיו
כתובת:: רחוב הברזל 26א', רמת החייל 69710
מדינה:: ישראל
טלפון:: 03-7109333
פקס:: 03-5606405
דוא"ל:: rasham@rcip.co.il

סוכן

שם:: ריינהולד כהן ושותפיו
כתובת:: רחוב הברזל 26א', רמת החייל 69710
מדינה:: ישראל
טלפון:: 03-7109333
פקס:: 03-5606405
דוא"ל:: rasham@rcip.co.il

מסמכים

פטנטים דומים