כללי
מספר פטנט:
213195
שם האמצאה:
תכשירים פוטורזיסטים ושיטות לייצור דוגמאות פוטוליטוגרפיות
שם באנגלית:
PHOTORESIST COMPOSITIONS AND EMTHODS OF FORMING PHOTOLITHOGRAPHIC PATTERNS
  בקשות ופרסומים
תאריך סוג מספר מדינה
דין קדימה 61/350003 ארה"ב (US)
בקשה לאומית 213195 ישראל (IL)
פרסום לאומי 213195 ישראל (IL)
  סיווגים (IPC)
  • G03C: פיזיקה > צילום; סינמטוגרפיה; טכניקות אנלוגיות באמצעות גלים שאינם אופטיים; אלקטרוגרפיה; הולוגרפיה