כללי
מספר פטנט:
235091
שם האמצאה:
מתקן חשיפה, שיטת חשיפה ושיטה לייצור מתקן עבורם
שם באנגלית:
EXPOSURE APPARATUS, EXPOSURE METHOD AND METHOD FOR PRODUCING A DEVICE THEREFOR
  בקשות ופרסומים
תאריך סוג מספר מדינה
פרסום בינלאומי 2005/031799 הארגון העולמי לקניין רוחני (WO)
דין קדימה 2003-338420 יפן (JP)
דין קדימה 2003-344938 יפן (JP)
דין קדימה 2004-042931 יפן (JP)
בקשה בינלאומית PCT/JP/2004/014693 יפן (JP)
בקשת PCT 235091 ישראל (IL)
פרסום לאומי 235091 ישראל (IL)
  מגיש
שם:
NIKON CORPORATION
כתובת:
12-1, YURAKUCHO 1-CHOME, CHIYODA-KU, TOKYO 100-8331 , JP
מדינה:
יפן
  מגיש/ממציא
שם:
HISASHI NISHINAGA
  מגיש/ממציא
שם:
IKUO HIKIMA
  מגיש/ממציא
שם:
MITSUNORI TOYODA
  מגיש/ממציא
שם:
MASAHIRO NAKAGAWA
  מגיש/ממציא
שם:
TSUNEYUKI HAGIWARA
  מגיש/ממציא
שם:
YASUSHI MIZUNO
  מגיש/ממציא
שם:
NAONORI KITA
  מגיש/ממציא
שם:
OSAMU TANITSU
  מגיש/ממציא
שם:
NOZOMU EMURA
  מסירת הודעות
שם:
ד" ר מרק פרידמן בע" מ
כתובת:
מגדל משה אביב, ק.54 , רחוב ז'בוטינסקי, רמת- גן 52520
מדינה:
ישראל
טלפון:
03-6114100
דוא"ל:
patents@friedpat.com
  סוכן
שם:
ד" ר מרק פרידמן בע" מ
כתובת:
מגדל משה אביב, ק.54 , רחוב ז'בוטינסקי, רמת- גן 52520
מדינה:
ישראל
טלפון:
03-6114100
דוא"ל:
patents@friedpat.com