מתקן חשיפה, שיטת חשיפה ושיטה לייצור המתקן - פטנט 174854 - קונץ פטנט

כללי

מספר פטנט:: 174854
שם האמצאה:: מתקן חשיפה, שיטת חשיפה ושיטה לייצור המתקן
שם באנגלית:: EXPOSURE APPARATUS, EXPOSURE METHOD AND METHOD FOR PRODUCING THE DEVICE

בקשות ופרסומים

תאריך	סוג	מספר	מדינה
	פרסום בינלאומי	2005/036624	הארגון העולמי לקניין רוחני (WO)
09/10/2003	דין קדימה	2003-350628	יפן (JP)
20/02/2004	דין קדימה	2004-045103	יפן (JP)
12/10/2004	בקשה בינלאומית	PCT/JP/2004/015332	יפן (JP)
06/04/2006	בקשת PCT	174854	ישראל (IL)
28/11/2013	פרסום לאומי	174854	ישראל (IL)

סיווגים (IPC)

H01L: חשמל > אלמנטים חשמליים בסיסיים

מגיש

שם:: NIKON CORPORATION
כתובת:: 12-1, YURAKUCHO 1-CHOME, CHIYODA-KU, TOKYO 100-8331 , JP
מדינה:: יפן

מגיש/ממציא

שם:: MASAHIKO YASUDA

מגיש/ממציא

שם:: TAKAHIRO MASADA

מגיש/ממציא

שם:: YUHO KANAYA

מגיש/ממציא

שם:: TADASHI NAGAYAMA

מגיש/ממציא

שם:: KENICHI SHIRAISHI

מסירת הודעות

שם:: ד" ר מרק פרידמן בע" מ
כתובת:: מגדל משה אביב, ק.54 , רחוב ז'בוטינסקי, רמת- גן 52520
מדינה:: ישראל
טלפון:: 03-6114100
דוא"ל:: patents@friedpat.com

סוכן

שם:: ד" ר מרק פרידמן בע" מ
כתובת:: מגדל משה אביב, ק.54 , רחוב ז'בוטינסקי, רמת- גן 52520
מדינה:: ישראל
טלפון:: 03-6114100
דוא"ל:: patents@friedpat.com

מסמכים

פטנטים דומים