כללי
מספר פטנט:
231730
שם האמצאה:
מתקן חשיפה, שיטת חשיפה, ושיטה לייצור המתקן
שם באנגלית:
EXPOSURE APPARTUS, EXPOSURE METHOD, AND METHOD FOR PRODUCING DEVICE
  בקשות ופרסומים
תאריך סוג מספר מדינה
פרסום בינלאומי 2005/031799 הארגון העולמי לקניין רוחני (WO)
דין קדימה 2003-338420 יפן (JP)
דין קדימה 2003-344938 יפן (JP)
דין קדימה 2004-042931 יפן (JP)
בקשה בינלאומית PCT/JP/2004/014693 יפן (JP)
בקשת PCT 231730 ישראל (IL)
פרסום לאומי 231730 ישראל (IL)
  סיווגים (IPC)
  • G03F: פיזיקה > צילום; סינמטוגרפיה; טכניקות אנלוגיות באמצעות גלים שאינם אופטיים; אלקטרוגרפיה; הולוגרפיה
  מגיש
שם:
NIKON CORPORATION
  מגיש/ממציא
שם:
HISASHI NISHINAGA
  מגיש/ממציא
שם:
IKUO HIKIMA
  מגיש/ממציא
שם:
MITSUNORI TOYODA
  מגיש/ממציא
שם:
MASAHIRO NAKAGAWA
  מגיש/ממציא
שם:
TSUNEYUKI HAGIWARA
  מגיש/ממציא
שם:
YASUSHI MIZUNO
  מגיש/ממציא
שם:
NAONORI KITA
  מגיש/ממציא
שם:
OSAMU TANITSU