כללי
מספר פטנט:
224052
שם האמצאה:
פד הברקה רך להברקת סובסטרט מוליך למחצה
שם באנגלית:
SOFT POLISHING PAD FOR POLISHING A SEMICONDUCTOR SUBSTRATE
  בקשות ופרסומים
תאריך סוג מספר מדינה
פרסום בינלאומי 2012/005778 הארגון העולמי לקניין רוחני (WO)
דין קדימה 12/832908 ארה"ב (US)
בקשה בינלאומית PCT/US/2011/020840 ארה"ב (US)
בקשת PCT 224052 ישראל (IL)
פרסום לאומי 224052 ישראל (IL)
  סיווגים (IPC)
  • B24B: תחבורה > טחינה; ליטוש