קונץ פטנט
ראשי
חיפוש פטנטים
אודות
צור קשר
כרית ליטוש עבור מצע של חצי-מוליך
פטנט 132412
כללי
מספר פטנט:
132412
שם האמצאה:
כרית ליטוש עבור מצע של חצי-מוליך
שם באנגלית:
POLISHING PAD FOR A SEMICONDUCTOR SUBSTRATE
בקשות ופרסומים
תאריך
סוג
מספר
מדינה
פרסום בינלאומי
1998/047662
הארגון העולמי לקניין רוחני (WO)
18/04/1997
דין קדימה
60/045646
ארה"ב (US)
15/07/1997
דין קדימה
60/052565
ארה"ב (US)
17/04/1998
בקשה בינלאומית
PCT/US/1998/007908
ארה"ב (US)
14/10/1999
בקשת PCT
132412
ישראל (IL)
19/03/2001
פרסום לאומי
132412
ישראל (IL)
מגיש
שם:
CABOT MICROELECTRONICS CORPORATION
פטנטים דומים
שיטה ליצור רכיבים מוליכים למחצה על מצע, ומצע הכולל רכיבים מוליכים למחצה
מהדק למרקע לשימוש בייצור של מוליכיםלמחצה
מהדק למרקע לשימוש כייצור של מוליכיםלמחצה
מנקה סובסטראט לחוט נחושת, ושיטה לניקוי סובסטראט מוליך למחצה חוט נחושת
שיטה ומצע גידול לגידול צמחים