תרחיף עבור צחצוח מכני כימי ושיטת צחצוח עבור המשתמש בו - פטנט 219703 - קונץ פטנט

כללי

מספר פטנט:: 219703
שם האמצאה:: תרחיף עבור צחצוח מכני כימי ושיטת צחצוח עבור המשתמש בו
שם באנגלית:: SLURRY FOR CHEMICAL MECHANICAL POLISHING AND POLISHING METHOD FOR SUBSTRATE USING SAME

בקשות ופרסומים

תאריך	סוג	מספר	מדינה
	פרסום בינלאומי	2011/058952	הארגון העולמי לקניין רוחני (WO)
11/11/2009	דין קדימה	258444/2009	יפן (JP)
08/11/2010	בקשה בינלאומית	PCT/JP/2010/069851	יפן (JP)
09/05/2012	בקשת PCT	219703	ישראל (IL)
31/07/2012	פרסום לאומי	219703	ישראל (IL)

סיווגים (IPC)

H01L: חשמל > אלמנטים חשמליים בסיסיים

מגיש

שם:: KURARAY CO, LTD

פטנטים דומים