מונומרים, פולימרים, תכשירים עמידים לקרינה ושיטות ליצירת דוגמאות ליטוגרפיות באמצעות אור - פטנט 217246 - קונץ פטנט

כללי

מספר פטנט:: 217246
שם האמצאה:: מונומרים, פולימרים, תכשירים עמידים לקרינה ושיטות ליצירת דוגמאות ליטוגרפיות באמצעות אור
שם באנגלית:: MONOMERS, PHOTORESIST COMPOSITIONS AND METHODS OF FORMING PHOTOLITHOGRAPHIC PATTERNS

בקשות ופרסומים

תאריך	סוג	מספר	מדינה
31/12/2010	דין קדימה	61/429107	ארה"ב (US)
28/12/2011	בקשה לאומית	217246	ישראל (IL)
31/07/2012	פרסום לאומי	217246	ישראל (IL)

סיווגים (IPC)

G03F: פיזיקה > צילום; סינמטוגרפיה; טכניקות אנלוגיות באמצעות גלים שאינם אופטיים; אלקטרוגרפיה; הולוגרפיה

מגיש

שם:: ROHM AND HAAS ELECTRONIC MATERIALS, LLC

מגיש

שם:: DOW GLOBAL TECHNOLOGIES LLC

פטנטים דומים