כללי
מספר פטנט:
217244
שם האמצאה:
פולימרים, תכשירים עמידים לאור ושיטות ליצירת דוגמאות ליטוגרפיות באמצעות אור
שם באנגלית:
POLYMERS, PHOTORESIST COMPOSITIONS AND METHODS OF FORMING PHOTOLITHOGRAPHIC PATTERNS
  בקשות ופרסומים
תאריך סוג מספר מדינה
דין קדימה 61/429111 ארה"ב (US)
בקשה לאומית 217244 ישראל (IL)
פרסום לאומי 217244 ישראל (IL)
  סיווגים (IPC)
  • G03F: פיזיקה > צילום; סינמטוגרפיה; טכניקות אנלוגיות באמצעות גלים שאינם אופטיים; אלקטרוגרפיה; הולוגרפיה