פולימרים, תכשירים עמידים לקרינה ושיטות ליצור דוגמאות ליטוגרפיות באמצעות אור - פטנט 216697 - קונץ פטנט

כללי

מספר פטנט:: 216697
שם האמצאה:: פולימרים, תכשירים עמידים לקרינה ושיטות ליצור דוגמאות ליטוגרפיות באמצעות אור
שם באנגלית:: POLYMERS, PHOTORESIST COMPOSITIONS AND METHODS OF FORMING PHOTOLITHOGRAPHIC PATTERNS

בקשות ופרסומים

תאריך	סוג	מספר	מדינה
02/12/2010	דין קדימה	61/419156	ארה"ב (US)
30/11/2011	בקשה לאומית	216697	ישראל (IL)
29/03/2012	פרסום לאומי	216697	ישראל (IL)

סיווגים (IPC)

C08J: כימיה, מטלורגיה > תרכובות של מולקולות ענק אורגניות; הכנתן או ייצורן הכימי; תרכובות המבוססות על כך

מגיש

שם:: ROHM AND HAAS ELECTRONIC MATERIALS, LLC

מגיש

שם:: DOW GLOBAL TECHNOLOGIES LLC

פטנטים דומים