מתקן למדידת כיסוי, מתקן ליטוגרפיה, ושיטה לייצור מכשיר תוך שימוש במתקן למדידת כיסוי - פטנט 210126 - קונץ פטנט

כללי

מספר פטנט:: 210126
שם האמצאה:: מתקן למדידת כיסוי, מתקן ליטוגרפיה, ושיטה לייצור מכשיר תוך שימוש במתקן למדידת כיסוי
שם באנגלית:: OVERLAY MEASUREMENT APPARATUS, LITHOGRAPHIC APPARATUS, AND DEVICE MANUFACTURING METHOD USING SUCH OVERLAY MEASUREMENT APPARATUS

בקשות ופרסומים

תאריך	סוג	מספר	מדינה
	פרסום בינלאומי	2009/156225	הארגון העולמי לקניין רוחני (WO)
26/06/2008	דין קדימה	61/075969	ארה"ב (US)
14/05/2009	בקשה בינלאומית	PCT/EP/2009/055809	משרד הפטנטים האירופי (EP)
20/12/2010	בקשת PCT	210126	ישראל (IL)
28/02/2011	פרסום לאומי	210126	ישראל (IL)

סיווגים (IPC)

G03F: פיזיקה > צילום; סינמטוגרפיה; טכניקות אנלוגיות באמצעות גלים שאינם אופטיים; אלקטרוגרפיה; הולוגרפיה

מגיש

שם:: ASML NETHERLANDS B.V.

פטנטים דומים