כללי
מספר פטנט:
177844
שם האמצאה:
שיטת לעיבוד לפני–מדידה מערכת חשיפה ומתקן לעיבוד תשתית
שם באנגלית:
PRE-MEASUREMENT PROCESSING METHOD, EXPOSURE SYSTEM AND SUBSTRATE PROCESSING APPARATUS
  בקשות ופרסומים
תאריך סוג מספר מדינה
פרסום בינלאומי 2005/083756 הארגון העולמי לקניין רוחני (WO)
דין קדימה 2004-056167 יפן (JP)
בקשה בינלאומית PCT/JP/2005/003156 יפן (JP)
בקשת PCT 177844 ישראל (IL)
פרסום לאומי 177844 ישראל (IL)
  מגיש
שם:
NIKON CORPORATION
  מגיש/ממציא
שם:
YUUKI ISHII
  מגיש/ממציא
שם:
HIROYUKI SUZUKI
  מגיש/ממציא
שם:
SHINICHI OKITA