קונץ פטנט
ראשי
חיפוש פטנטים
אודות
צור קשר
שיטת לעיבוד לפני–מדידה מערכת חשיפה ומתקן לעיבוד תשתית
פטנט 177844
כללי
מספר פטנט:
177844
שם האמצאה:
שיטת לעיבוד לפני–מדידה מערכת חשיפה ומתקן לעיבוד תשתית
שם באנגלית:
PRE-MEASUREMENT PROCESSING METHOD, EXPOSURE SYSTEM AND SUBSTRATE PROCESSING APPARATUS
בקשות ופרסומים
תאריך
סוג
מספר
מדינה
פרסום בינלאומי
2005/083756
הארגון העולמי לקניין רוחני (WO)
01/03/2004
דין קדימה
2004-056167
יפן (JP)
25/02/2005
בקשה בינלאומית
PCT/JP/2005/003156
יפן (JP)
31/08/2006
בקשת PCT
177844
ישראל (IL)
31/12/2006
פרסום לאומי
177844
ישראל (IL)
מגיש
שם:
NIKON CORPORATION
מגיש/ממציא
שם:
YUUKI ISHII
מגיש/ממציא
שם:
HIROYUKI SUZUKI
מגיש/ממציא
שם:
SHINICHI OKITA
פטנטים דומים
שיטת מיקום, מערכת עיבוד, שיטה למדידת חזרתיות מילוי מצע, שיטת מדידת מיקום, שיטה, שיטת חשיפה, מתקן עיבוד מצע, שיטת מדידה, ומתקן מדידה
שיטה לעיבוד מצע ומתקן לעיבוד מצע
שיטה לטיפול תהליכי במצע והתקן לטיפול במצע
עיבוד ביומסה
שיטה ויחידת טרום עיבוד לעיבוד אותות וידאו