כללי
מספר פטנט:
181123
שם האמצאה:
שיטת מיקום, מערכת עיבוד, שיטה למדידת חזרתיות מילוי מצע, שיטת מדידת מיקום, שיטה, שיטת חשיפה, מתקן עיבוד מצע, שיטת מדידה, ומתקן מדידה
שם באנגלית:
POSITIONING METHOD, PROCESSING SYSTEM, MEASUREMENT METHOD OF SUBSTRATE LOADING REPEATABILITY, POSITION MEASUREMENT METHOD, EXPOSURE METHOD, SUBSTRATE PROCESSING APPARATUS, MEASUREMENT METHOD, AND MEASUREMENT APPARATUS
  בקשות ופרסומים
תאריך סוג מספר מדינה
פרסום בינלאומי 2006/025386 הארגון העולמי לקניין רוחני (WO)
דין קדימה 2004-251244 יפן (JP)
דין קדימה 2005-045660 יפן (JP)
בקשה בינלאומית PCT/JP/2005/015764 יפן (JP)
בקשת PCT 181123 ישראל (IL)
פרסום לאומי 181123 ישראל (IL)
  מגיש
שם:
NIKON CORPORATION