קונץ פטנט
ראשי
חיפוש פטנטים
אודות
צור קשר
שיטה לעיבוד מצע ומתקן לעיבוד מצע
פטנט 173590
כללי
מספר פטנט:
173590
שם האמצאה:
שיטה לעיבוד מצע ומתקן לעיבוד מצע
שם באנגלית:
METHOD OF PROCESSING SUBSTRATE AND SUBSTRATE PROCESSING APPARATUS
בקשות ופרסומים
תאריך
סוג
מספר
מדינה
פרסום בינלאומי
2005/015625
הארגון העולמי לקניין רוחני (WO)
12/08/2003
דין קדימה
2003-292523
יפן (JP)
02/12/2003
בקשה בינלאומית
PCT/JP/2003/015431
יפן (JP)
07/02/2006
בקשת PCT
173590
ישראל (IL)
05/07/2006
פרסום לאומי
173590
ישראל (IL)
מגיש
שם:
S.E.S. COMPANY LIMITED
פטנטים דומים
שיטה לטיפול תהליכי במצע והתקן לטיפול במצע
שיטת לעיבוד לפני–מדידה מערכת חשיפה ומתקן לעיבוד תשתית
עיבוד ביומסה
שיטת מיקום, מערכת עיבוד, שיטה למדידת חזרתיות מילוי מצע, שיטת מדידת מיקום, שיטה, שיטת חשיפה, מתקן עיבוד מצע, שיטת מדידה, ומתקן מדידה
התקן לעיבוד נתונים