כללי
מספר פטנט:
168076
שם האמצאה:
שכבות של סיליקון–גרמניום (SiGe) רפוי על סליקון או סיליקון על מבודד ע" י השתלת יונים והקשחה תרמית
שם באנגלית:
RELAXED SiGe LAYERS ON Si OR SILICON-ON-INSULATOR SUBSTRATES BY ION IMPLANTATION AND THERMAL ANNEALING
  בקשות ופרסומים
תאריך סוג מספר מדינה
פרסום בינלאומי 2004/047150 הארגון העולמי לקניין רוחני (WO)
דין קדימה 10/299880 ארה"ב (US)
בקשה בינלאומית PCT/US/2003/036969 ארה"ב (US)
בקשת PCT 168076 ישראל (IL)
פרסום לאומי 168076 ישראל (IL)
  מגיש
שם:
IBM CORPORATION