כללי
מספר פטנט:
162102
שם האמצאה:
שיטה ומכשיר למדידת מתח ברכיבים מוליכים למחצה
שם באנגלית:
METHOD AND APPARATUS FOR MEASURING STRESS IN SEMICONDUCTOR WAFERS
  בקשות ופרסומים
תאריך סוג מספר מדינה
פרסום בינלאומי 2003/046474 הארגון העולמי לקניין רוחני (WO)
דין קדימה 09/991709 ארה"ב (US)
בקשה בינלאומית PCT/IL/2002/000954 ישראל (IL)
בקשת PCT 162102 ישראל (IL)
פרסום לאומי 162102 ישראל (IL)
  מגיש
שם:
NANOMETRICS- ISRAEL LTD.
כתובת:
P.O.BOX 690 BUILDING 2, ZONE 7 INDUSTRY PARK YOKNEAM 20692 , IL
מדינה:
ישראל
  מגיש
שם:
TEVET PROCESS CONTROL TECHNOLOGIES LTD.
כתובת:
P.O.BOX 690 BUILDING 2, ZONE 7 INDUSTRY PARK 20692 YOKNEAM , IL
מדינה:
ישראל
  מגיש/ממציא
שם:
YARON ISH-SHALOM
כתובת:
IL
מדינה:
ישראל
  מגיש/ממציא
שם:
OFER DU-NOUR
כתובת:
IL
מדינה:
ישראל
  מסירת הודעות
שם:
ג'י.אי.ארליך (1995) בע" מ
כתובת:
מגדל איילון, קומה 15 ,רחוב מנחם בגין 11, רמת גן 52521
מדינה:
ישראל
טלפון:
09-9570590
פקס:
09-9570595
דוא"ל:
israel@ipatent.co.il
  סוכן
שם:
ג'י.אי.ארליך (1995) בע" מ
כתובת:
מגדל איילון, קומה 15 ,רחוב מנחם בגין 11, רמת גן 52521
מדינה:
ישראל
טלפון:
09-9570590
פקס:
09-9570595
דוא"ל:
israel@ipatent.co.il