קונץ פטנט
ראשי
חיפוש פטנטים
אודות
צור קשר
התקני מצע/SOMC מבודד בעלי דליפה נמוכה ושיטה לבנייתם
פטנט 85198
כללי
מספר פטנט:
85198
שם האמצאה:
התקני מצע/SOMC מבודד בעלי דליפה נמוכה ושיטה לבנייתם
שם באנגלית:
LOW LEAKAGE CMOS/INSULATOR SUBSTRATE DEVICES AND METH0D OF FORMING THE SAME
בקשות ופרסומים
תאריך
סוג
מספר
מדינה
24/02/1987
דין קדימה
17498
ארה"ב (US)
26/01/1988
בקשה לאומית
85198
ישראל (IL)
06/09/1992
פרסום לאומי
85198
ישראל (IL)
מגיש
שם:
HUGHES AIRCRAFT COMPANY
כתובת:
7200 HUGHES TERRACE P.O.BOX 80028 LOS ANGELES, CALIFORNIA , US
מדינה:
ארה"ב
מסירת הודעות
שם:
סנפורד ט. קולב ושות'
כתובת:
שער הגיא 4, מרמורק, רחובות 76122
מדינה:
ישראל
טלפון:
08-9455122
פקס:
08-9454556
דוא"ל:
colbpat@stc.co.il
סוכן
שם:
סנפורד ט. קולב ושות'
כתובת:
שער הגיא 4, מרמורק, רחובות 76122
מדינה:
ישראל
טלפון:
08-9455122
פקס:
08-9454556
דוא"ל:
colbpat@stc.co.il
מסמכים
פרטי הבקשה
שרטוטים
תביעות
פטנטים דומים
שיטת יצור של מבדד על SiGe שהינו באיכות גבוהה ורפה לישומים CMOS עם Si הדוק
חיישן תמונה CMOS עם מצע אחורי מוטה
תשתית ושיטה עבור יצירת תשתית עבור מתקן פליטת נוזל
סיליקון מתוח על מבודד ושיטה לייצורו
שיטה ותכשיר ליצירת ציפוי מגן על סובסטראט בוחן וסובסטראט הנוצר בשיטה זו