קונץ פטנט
ראשי
חיפוש פטנטים
אודות
צור קשר
הכנת קרומים של ניטריד הצורך ע" י השקעת פוטוכימית של אדים
פטנט 57248
כללי
מספר פטנט:
57248
שם האמצאה:
הכנת קרומים של ניטריד הצורך ע" י השקעת פוטוכימית של אדים
שם באנגלית:
PREPARATION OF SILICON NITRIDE FILMS BY PHOTOCHEMICAL VAPOR DEPOSITION
בקשות ופרסומים
תאריך
סוג
מספר
מדינה
10/05/1979
בקשה לאומית
57248
ישראל (IL)
30/04/1982
פרסום לאומי
57248
ישראל (IL)
מגיש
שם:
HUGHES AIRCRAFT COMPANY
כתובת:
CULVER CITY CALIF. , US
מדינה:
ארה"ב
מסירת הודעות
שם:
ריינהולד כהן ושותפיו
כתובת:
רחוב הברזל 26א', רמת החייל 69710
מדינה:
ישראל
טלפון:
03-7109333
פקס:
03-5606405
דוא"ל:
rasham@rcip.co.il
סוכן
שם:
ריינהולד כהן ושותפיו
כתובת:
רחוב הברזל 26א', רמת החייל 69710
מדינה:
ישראל
טלפון:
03-7109333
פקס:
03-5606405
דוא"ל:
rasham@rcip.co.il
מסמכים
פרטי הבקשה
שרטוטים
תביעות
פטנטים דומים
סיליקון ניטריד מאמינוסילאן באמצעות PECVD
שיטה להכנת פחמן ניטרידי
תכשירים המכילים צורן ניטריד
התקן להשקעת אדים פוטוכימית
תהליך להשקעת שכבות של תחמוצות ע" י השקעה פוטוכימית של אדים בטמפרטורה נמוכה