תהליך להשקעת שכבות של תחמוצות ע" י השקעה פוטוכימית של אדים בטמפרטורה נמוכה - פטנט 61538 - קונץ פטנט

כללי

מספר פטנט:: 61538
שם האמצאה:: תהליך להשקעת שכבות של תחמוצות ע" י השקעה פוטוכימית של אדים בטמפרטורה נמוכה
שם באנגלית:: LOW TEMPERATURE PROCESS FOR DEPOSITING OXIDE LAYERS BY PHOTOCHEMICAL VAPOR DEPOSITION

בקשות ופרסומים

תאריך	סוג	מספר	מדינה
17/12/1979	דין קדימה	104323	ארה"ב (US)
21/11/1980	בקשה לאומית	61538	ישראל (IL)
30/03/1984	פרסום לאומי	61538	ישראל (IL)

מגיש

שם:: HUGHES AIRCRAFT COMPANY
כתובת:: 7200 HUGHES TERRACE P.O.BOX 80028 LOS ANGELES, CALIFORNIA , US
מדינה:: ארה"ב

מסירת הודעות

שם:: ריינהולד כהן ושותפיו
כתובת:: רחוב הברזל 26א', רמת החייל 69710
מדינה:: ישראל
טלפון:: 03-7109333
פקס:: 03-5606405
דוא"ל:: rasham@rcip.co.il

סוכן

שם:: ריינהולד כהן ושותפיו
כתובת:: רחוב הברזל 26א', רמת החייל 69710
מדינה:: ישראל
טלפון:: 03-7109333
פקס:: 03-5606405
דוא"ל:: rasham@rcip.co.il

מסמכים

פטנטים דומים