קונץ פטנט
ראשי
חיפוש פטנטים
אודות
צור קשר
מבנה מוליך למחצה, מכשיר הכולל מבנה זה, ושיטה לייצור מבנה מוליך למחצה
פטנט 233444
כללי
מספר פטנט:
233444
שם האמצאה:
מבנה מוליך למחצה, מכשיר הכולל מבנה זה, ושיטה לייצור מבנה מוליך למחצה
שם באנגלית:
SEMICONDUCTOR STRUCTURE, DEVICE COMPRISING SUCH A STRUCTURE, AND METHOD FOR PRODUCING A SEMICONDUCTOR STRUCTURE
בקשות ופרסומים
תאריך
סוג
מספר
מדינה
פרסום בינלאומי
2013/102631
הארגון העולמי לקניין רוחני (WO)
04/01/2012
דין קדימה
1250086
צרפת (FR)
02/01/2013
בקשה בינלאומית
PCT/EP/2013/050020
משרד הפטנטים האירופי (EP)
29/06/2014
בקשת PCT
233444
ישראל (IL)
31/08/2014
פרסום לאומי
233444
ישראל (IL)
סיווגים (IPC)
H01L : חשמל > אלמנטים חשמליים בסיסיים
מגיש/ממציא
שם:
COMMISSARIAT A L'ENERGIE ATOMIQUE ET AUX ENERGIES ALTERNATIVES
מגיש/ממציא
שם:
OLIVIER GRAVRAND
מגיש/ממציא
שם:
ALEXANDRE FERRON
פטנטים דומים
מבנה מוליך למחצה ושיטה לייצור מתקן מוליך למחצה
מבנה מוליך למחצה המאפשר קבלת קרינה אלקטרומגנטית, רכיב מוליך למחצה ותהליך ליצירת מבנה מוליך למחצה זה
רכיב מוליך למחצה (DEVICE SEMICONDUCTOR) ושיטה לייצור רכיב מוליך למחצה
התקן חצי מוליך ושיטה ליצירת התקן חצי מוליך
שיטה ליצור רכיבים מוליכים למחצה על מצע, ומצע הכולל רכיבים מוליכים למחצה