מתקן חשיפה, שיטת חשיפה, שיטה ליצור המתקן ורכיב אופטי - פטנט 223536 - קונץ פטנט

כללי

מספר פטנט:: 223536
שם האמצאה:: מתקן חשיפה, שיטת חשיפה, שיטה ליצור המתקן ורכיב אופטי
שם באנגלית:: EXPOSURE APPARATUS, EXPOSURE METHOD, METHOD FOR PRODUCING DEVICE AND OPTICAL PART

בקשות ופרסומים

תאריך	סוג	מספר	מדינה
	פרסום בינלאומי	2005/055296	הארגון העולמי לקניין רוחני (WO)
03/12/2003	דין קדימה	2003-404384	יפן (JP)
19/02/2004	דין קדימה	2004-042496	יפן (JP)
03/12/2004	בקשה בינלאומית	PCT/JP/2004/018435	יפן (JP)
09/12/2012	בקשת PCT	223536	ישראל (IL)
03/02/2013	פרסום לאומי	223536	ישראל (IL)

סיווגים (IPC)

H01L: חשמל > אלמנטים חשמליים בסיסיים

מגיש

שם:: NIKON CORPORATION

מגיש/ממציא

שם:: HITOSHI ISHIZAWA

מגיש/ממציא

שם:: HIROYUKI NAGASAKA

מגיש/ממציא

שם:: HIROAKI TAKAIWA

מגיש/ממציא

שם:: SHIGERU HIRUKAWA

מגיש/ממציא

שם:: RYUICHI HOSHIKA

פטנטים דומים