מתקן חשיפה, שיטת חשיפה, שיטה ליצור המתקן ורכיב אופטי - פטנט 207790 - קונץ פטנט

כללי

מספר פטנט:: 207790
שם האמצאה:: מתקן חשיפה, שיטת חשיפה, שיטה ליצור המתקן ורכיב אופטי
שם באנגלית:: EXPOSURE APPARATUS, EXPOSURE METHOD, METHOD FOR PRODUCING DEVICE, AND OPTICAL PART

בקשות ופרסומים

תאריך	סוג	מספר	מדינה
	פרסום בינלאומי	2005/055296	הארגון העולמי לקניין רוחני (WO)
03/12/2003	דין קדימה	2003-404384	יפן (JP)
19/02/2004	דין קדימה	2004-042496	יפן (JP)
03/12/2004	בקשה בינלאומית	PCT/JP/2004/018435	יפן (JP)
24/08/2010	בקשת PCT	207790	ישראל (IL)
30/08/2012	פרסום לאומי	207790	ישראל (IL)

מגיש

שם:: NIKON CORPORATION
כתובת:: 12-1, YURAKUCHO 1-CHOME, CHIYODA-KU, TOKYO 100-8331 , JP
מדינה:: יפן

מגיש/ממציא

שם:: HITOSHI ISHIZAWA

מגיש/ממציא

שם:: RYUICHI HOSHIKA

מסירת הודעות

שם:: ד" ר מרק פרידמן בע" מ
כתובת:: מגדל משה אביב, ק.54 , רחוב ז'בוטינסקי, רמת- גן 52520
מדינה:: ישראל
טלפון:: 03-6114100
דוא"ל:: patents@friedpat.com

סוכן

שם:: ד" ר מרק פרידמן בע" מ
כתובת:: מגדל משה אביב, ק.54 , רחוב ז'בוטינסקי, רמת- גן 52520
מדינה:: ישראל
טלפון:: 03-6114100
דוא"ל:: patents@friedpat.com

מסמכים

פטנטים דומים