כללי
מספר פטנט:
206426
שם האמצאה:
התקן ושיטה לטיפול בפיסות סיליקון
שם באנגלית:
METHOD AND DEVICE FOR TREATING SILICON WAFERS
  בקשות ופרסומים
תאריך סוג מספר מדינה
פרסום בינלאומי 2009/077201 הארגון העולמי לקניין רוחני (WO)
דין קדימה 102007063202.0 גרמניה (DE)
בקשה בינלאומית PCT/EP/2008/010894 משרד הפטנטים האירופי (EP)
בקשת PCT 206426 ישראל (IL)
פרסום לאומי 206426 ישראל (IL)
  סיווגים (IPC)
  • H01L: חשמל > אלמנטים חשמליים בסיסיים