כללי
מספר פטנט:
180764
שם האמצאה:
קומפלקסים של נחושת (II) לשיקוע של פילמים של נחושת על ידי שיקוע של שכבות אוטומיות
שם באנגלית:
COPPER (II) COMPLEXES FOR DEPOSITION OF COPPER FILMS BY ATOMIC LAYER DEPOSITION
  בקשות ופרסומים
תאריך סוג מספר מדינה
פרסום בינלאומי 2006/015225 הארגון העולמי לקניין רוחני (WO)
דין קדימה 60/592785 ארה"ב (US)
דין קדימה 60/592816 ארה"ב (US)
בקשה בינלאומית PCT/US/2005/027019 ארה"ב (US)
בקשת PCT 180764 ישראל (IL)
פרסום לאומי 180764 ישראל (IL)
  מגיש
שם:
E.I. DU PONT DE NEMOURS AND COMPANY