כללי
מספר פטנט:
130310
שם האמצאה:
יצור שכבה של דו-תחמוצת הסיליקון וסיליקון אוקסיניטריד ע" י שימוש ב-ביס (בוטילאמינושלישוני) סילן
שם באנגלית:
DEPOSITION OF SILICON DIOXIDE AND SILICON OXYNITRIDE FILMS USING BIS (TERTIARYBUTYLAMINO) SILANE
  בקשות ופרסומים
תאריך סוג מספר מדינה
דין קדימה 095818 ארה"ב (US)
בקשה לאומית 130310 ישראל (IL)
פרסום לאומי 130310 ישראל (IL)
  מגיש
שם:
AIR PRODUCTS AND CHEMICALS, INC.
כתובת:
7201 HAMILTON BOULEVARD ALLENTOWN, PA 18195-1501 , US
מדינה:
ארה"ב
  מסירת הודעות
שם:
סנפורד ט. קולב ושות'
כתובת:
שער הגיא 4, מרמורק, רחובות 76122
מדינה:
ישראל
טלפון:
08-9455122
פקס:
08-9454556
דוא"ל:
colbpat@stc.co.il
  סוכן
שם:
סנפורד ט. קולב ושות'
כתובת:
שער הגיא 4, מרמורק, רחובות 76122
מדינה:
ישראל
טלפון:
08-9455122
פקס:
08-9454556
דוא"ל:
colbpat@stc.co.il
  סוכן
שם:
ריינהולד כהן ושותפיו
כתובת:
רחוב הברזל 26א', רמת החייל 69710
מדינה:
ישראל
טלפון:
03-7109333
פקס:
03-5606405
דוא"ל:
rasham@rcip.co.il