קונץ פטנט
ראשי
חיפוש פטנטים
אודות
צור קשר
תכשירי פוטו-רזיסט שליליים והשימוש בהם להכנת בבואות תשליל יציבות בחום
פטנט 81229
כללי
מספר פטנט:
81229
שם האמצאה:
תכשירי פוטו-רזיסט שליליים והשימוש בהם להכנת בבואות תשליל יציבות בחום
שם באנגלית:
NEGATIVE PHOTORESIST COMPOSITIONS AND THEIR USE FOR PREPARING THERMALLY STABLE, NEGATIVE IMAGES
בקשות ופרסומים
תאריך
סוג
מספר
מדינה
13/01/1986
דין קדימה
818,430
ארה"ב (US)
12/01/1987
בקשה לאומית
81229
ישראל (IL)
10/03/1991
פרסום לאומי
81229
ישראל (IL)
מגיש
שם:
ROHM AND HAAS COMPANY
כתובת:
100 INDEPENDENCE MALL WEST, 7TH FLOOR PHILADELPHIA, PA 19106-2399 , US
מדינה:
ארה"ב
מסירת הודעות
שם:
ריינהולד כהן ושותפיו
כתובת:
רחוב הברזל 26א', רמת החייל 69710
מדינה:
ישראל
טלפון:
03-7109333
פקס:
03-5606405
דוא"ל:
rasham@rcip.co.il
סוכן
שם:
ריינהולד כהן ושותפיו
כתובת:
רחוב הברזל 26א', רמת החייל 69710
מדינה:
ישראל
טלפון:
03-7109333
פקס:
03-5606405
דוא"ל:
rasham@rcip.co.il
מסמכים
פרטי הבקשה
תביעות
פטנטים דומים
הרכבים בעלי עמידות לאור שלילית
תהליך ליצירת דגמה שלילית בשכבת פוטורזיסט
מערכות פוטו-רזיסט שליליות
תכשירים ושיטות לחיסול בקטריה גרם–שלילית
אלקטרודות שליליות לשימוש בתא אלקטרוכימי המבוסס על אבץ.