תהליך להשקעת אדים כימית - פטנט 80079 - קונץ פטנט

כללי

מספר פטנט:: 80079
שם האמצאה:: תהליך להשקעת אדים כימית
שם באנגלית:: CHEMICAL VAPOR DEPOSITION PROCESS

בקשות ופרסומים

תאריך	סוג	מספר	מדינה
27/08/1982	דין קדימה	412,237	ארה"ב (US)
06/07/1983	בקשה לאומית	80079	ישראל (IL)
31/03/1987	פרסום לאומי	80079	ישראל (IL)

מגיש

שם:: SILICON VALLEY GROUP INC.
כתובת:: US
מדינה:: ארה"ב

מסירת הודעות

שם:: ריינהולד כהן ושותפיו
כתובת:: רחוב הברזל 26א', רמת החייל 69710
מדינה:: ישראל
טלפון:: 03-7109333
פקס:: 03-5606405
דוא"ל:: rasham@rcip.co.il

סוכן

שם:: ריינהולד כהן ושותפיו
כתובת:: רחוב הברזל 26א', רמת החייל 69710
מדינה:: ישראל
טלפון:: 03-7109333
פקס:: 03-5606405
דוא"ל:: rasham@rcip.co.il

מסמכים

פטנטים דומים