התקן להשקעה כימית של אדים - פטנט 72796 - קונץ פטנט

כללי

מספר פטנט:: 72796
שם האמצאה:: התקן להשקעה כימית של אדים
שם באנגלית:: CHEMICAL VAPOR DEPOSITION APPARATUS

בקשות ופרסומים

תאריך	סוג	מספר	מדינה
31/08/1983	דין קדימה	528193	ארה"ב (US)
29/08/1984	בקשה לאומית	72796	ישראל (IL)
29/04/1988	פרסום לאומי	72796	ישראל (IL)

מגיש

שם:: SILICON VALLEY GROUP INC.
כתובת:: US
מדינה:: ארה"ב

מסירת הודעות

שם:: ריינהולד כהן ושותפיו
כתובת:: רחוב הברזל 26א', רמת החייל 69710
מדינה:: ישראל
טלפון:: 03-7109333
פקס:: 03-5606405
דוא"ל:: rasham@rcip.co.il

סוכן

שם:: ריינהולד כהן ושותפיו
כתובת:: רחוב הברזל 26א', רמת החייל 69710
מדינה:: ישראל
טלפון:: 03-7109333
פקס:: 03-5606405
דוא"ל:: rasham@rcip.co.il

מסמכים

פטנטים דומים