כללי
מספר פטנט:
235833
שם האמצאה:
שיטה ומכשיר מטרולוגיים, מצע, מערכת ליטוגרפית ושיטת לייצור התקן
שם באנגלית:
METROLOGY METHOD AND APPARATUS, SUBSTRATE, LITHOGRAPHIC SYSTEM AND DEVICE MANUFACTURING METHOD
  בקשות ופרסומים
תאריך סוג מספר מדינה
פרסום בינלאומי 2013/178422 הארגון העולמי לקניין רוחני (WO)
דין קדימה 61/652552 ארה"ב (US)
בקשה בינלאומית PCT/EP/2013/059061 משרד הפטנטים האירופי (EP)
בקשת PCT 235833 ישראל (IL)
פרסום לאומי 235833 ישראל (IL)
  סיווגים (IPC)
  • G03F: פיזיקה > צילום; סינמטוגרפיה; טכניקות אנלוגיות באמצעות גלים שאינם אופטיים; אלקטרוגרפיה; הולוגרפיה