כללי
מספר פטנט:
231042
שם האמצאה:
מטרת התזה ושיטה לייצורה
שם באנגלית:
SPUTTERING TARGET AND MANUFACTURING METHOD THEREFOR
  בקשות ופרסומים
תאריך סוג מספר מדינה
פרסום בינלאומי 2013/047199 הארגון העולמי לקניין רוחני (WO)
דין קדימה 2011-216326 יפן (JP)
בקשה בינלאומית PCT/JP/2012/073273 יפן (JP)
בקשת PCT 231042 ישראל (IL)
פרסום לאומי 231042 ישראל (IL)
  סיווגים (IPC)
  • C23C: כימיה, מטלורגיה > ציפוי חומרים מתכתיים; ציפוי חומרים עם חומר מתכתי; טיפול כימי במשטח; טיפול דיפוזיה של חומר מתכתי; ציפוי באמצעות אידוי בריק, ע"י התזה, ע"י השרשת יונים או ע"י ריבוץ באדים כימיים, באופן כללי; מניעת קורוזיה של חומר מתכתי או הקרמה באופן כללי