קונץ פטנט
ראשי
חיפוש פטנטים
אודות
צור קשר
מטרת התזה עם טנטלום
פטנט 223430
כללי
מספר פטנט:
223430
שם האמצאה:
מטרת התזה עם טנטלום
שם באנגלית:
TANTALUM SPUTTERING TARGET
בקשות ופרסומים
תאריך
סוג
מספר
מדינה
פרסום בינלאומי
2012/020631
הארגון העולמי לקניין רוחני (WO)
09/08/2010
דין קדימה
2010-178654
יפן (JP)
21/07/2011
בקשה בינלאומית
PCT/JP/2011/066562
יפן (JP)
04/12/2012
בקשת PCT
223430
ישראל (IL)
31/03/2016
פרסום לאומי
223430
ישראל (IL)
מגיש
שם:
JX NIPPON MINING & METALS CORPORATION
כתובת:
6-3, OTEMACHI 2-CHOME, CHIYODA -KU, TOKYO 1008164 , JP
מדינה:
יפן
מסירת הודעות
שם:
ריינהולד כהן ושותפיו
כתובת:
רחוב הברזל 26א', רמת החייל 69710
מדינה:
ישראל
טלפון:
03-7109333
פקס:
03-5606405
דוא"ל:
rasham@rcip.co.il
סוכן
שם:
ריינהולד כהן ושותפיו
כתובת:
רחוב הברזל 26א', רמת החייל 69710
מדינה:
ישראל
טלפון:
03-7109333
פקס:
03-5606405
דוא"ל:
rasham@rcip.co.il
מסמכים
פרטי הבקשה
פטנטים דומים
מטרה פולטת טנטלום
מטרת התזה עם טנטלום
מתז מטרה טנטאלום
מתז מטרה טנטאלום ושיטה לייצורו
מטרת התזה עם טנטלום בעלת הרכב מוליבדן ספציפית